在芯片制造業(yè)中，光刻機至關(guān)重要，每顆芯片都需要經(jīng)過光刻技術(shù)的鍛造。荷蘭阿斯麥（ASML）公司是目前世界上唯一的EUV光刻機供應(yīng)商，影響著全球芯片供應(yīng)。若想在這方面不被卡脖子，則需要我們國家在光刻機領(lǐng)域取得突破性研究成果。

據(jù)科技日報報道，2月25日，清華大學(xué)的一項科研成果刊登在《自然》上，這篇題為《穩(wěn)態(tài)微聚束原理的實驗演示》的論文，報告了一種新型粒子加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”（SSMB）的首個原理驗證實驗。SSMB光源的潛在應(yīng)用之一就是作為未來EUV光刻機的光源。

SSMB原理驗證實驗示意圖

該實驗由清華大學(xué)工程物理系唐傳祥教授研究組和亥姆霍茲柏林材料與能源研究中心、德國聯(lián)邦物理技術(shù)研究院合作完成。唐傳祥表示，基于SSMB的EUV光源有望解決自主研發(fā)光刻機中最核心的“卡脖子”難題。但是，EUV光刻機的自主研發(fā)還有很長的路要走，這需要SSMB EUV光源的持續(xù)科技攻關(guān)，也需要上下游產(chǎn)業(yè)鏈的配合，才能獲得真正成功。