10nm工藝節(jié)點即將大規(guī)模普及，同時這也意味著我們很快進入7nm階段，不過，7nm的技術挑戰(zhàn)已不可同日而語，其中的關鍵就是EUV（極紫外）光刻機。

其中，荷蘭ASML（阿斯麥）在當今高端沉浸式光刻機中占據(jù)80%的份額，是絕對的龍頭。

昨天晚些時候，阿斯麥也公布了財報數(shù)據(jù)，Q1凈營收為19.4億歐元，毛利率47.6%，而它們所做的一切，不過是賣出數(shù)十臺光刻機而已。

其中主要包含三部分，分別是深紫外光（DUV）微影、全方位微影（Holistic Lithography）和極紫外光（EUV）微影，前者用于10nm量產(chǎn)和7nm的研發(fā)，迄今累計裝機60多臺。

而最高端的EUV光刻機，僅僅在Q1晚些時候出貨了第一臺NXE：3400B，而收到的訂單已經(jīng)累計21臺，總價值23億歐元，單價超1億歐，媲美一架F35戰(zhàn)斗機。

這第一臺的客戶如無意外應該就是Intel，而后者目前用的最多的還是前一代EUV系統(tǒng)NXE 3350B，即使這樣，全球也才部署了6套而已，供不應求。