據(jù)美國世界新聞網(wǎng)8月27日報道，臺灣“高等檢察署”偵辦臺積電2納米核心關鍵技術竊密案，查出臺積電前工程師陳力銘跳槽到日企東京電子公司后，為獲取“蝕刻機臺”量產(chǎn)測試數(shù)據(jù)，通過時任臺積電工程師吳秉駿、戈一平竊取參數(shù)配方。檢方27日根據(jù)違反“安全法”、營業(yè)秘密等罪，起訴以上3人。
據(jù)報道，由于陳力銘、吳秉駿、戈一平涉“核心關鍵技術營業(yè)秘密之域外使用罪”，檢方分別求處7至14年重刑，3人在押，且均認罪，下周將移審至臺灣“智慧財產(chǎn)與商業(yè)法院”。
檢調(diào)認定，陳力銘翻拍、復制臺積電核心技術測試數(shù)據(jù)、流程圖文件共14張。檢方認定，陳力銘應執(zhí)行有期徒刑14年，吳秉駿應執(zhí)行有期徒刑9年，戈一平應處有期徒刑7年。
責任編輯：莊婷婷
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